Toggle navigation
Otsing
Kollektsioonid
Registrid
Abi ja info
Digikogu
Otsing
Kollektsioonid
Registrid
Abi ja info
Intranet
Logi sisse
pealkiri
Investigation of the Intermediate Layer in the Metal-Silicon Carbide Contact Obtained by Diffusion Welding
Difusioonkeevitusega valmistatud metalli ja ränikarbiidi vahelise üleminekuala vahekihi uurimine
autor
Sleptšuk, Natalja
märksõnad
difusioonkeevitus
ränikarbiid
metall-pooljuht kontakt
vahekiht
dissertatsioonid
diffusion welding
silicon carbide
metal-semiconductor contact
intermediate layer
dissertations
väljaandja
TUT Press
juhendaja
Rang, Toomas
Korolkov, Oleg
kaitsmiskuupäev
03.06.2011
identifikaator
ISBN: 9789949230792 (publication)
ISBN: 9789949230808 (pdf)
ISSN: 14064731
keel
eng
asutus
Tallinna Tehnikaülikool
Tallinn University of Technology
teaduskond
Infotehnoloogia teaduskond
Faculty of Information Technology
instituut / kolledž
Thomas Johann Seebecki elektroonikainstituut
Thomas Johann Seebeck Department of Electronics
Laadi alla
pdf
10 MB